Prototipos nanotecnología con nanolitografía por haz de electrones
E-beam nanolitografía se utiliza en los laboratorios de nanotecnología para crear prototipos de circuitos integrados y otros semiconductores. Es como la litografía ultravioleta basados en el hecho de que un haz de electrones se centra en la fotoprotección. Sin embargo, hay algunas diferencias significativas entre los dos métodos.
Por ejemplo, los campos eléctricos se utilizan en lugar de una lente para enfocar el haz. También, en lugar de utilizar una máscara para definir un patrón en la resina fotosensible, el haz se mueve para crear el patrón. Toda la operación se lleva a cabo en el vacío ya que el aire o cualquier otros bloques sustancia el movimiento de electrones.
Usted puede comprar sistemas de nanolitografía e-haz caros (para unos pocos millones de dólares) o modificar el microscopio electrónico de barrido (SEM) que tiene en su laboratorio para dibujar patrones en el resistir. Ambos sistemas dedicados y sistemas reacondicionados son versátiles en la producción de cualquier patrón de un investigador puede imaginar.
![Un patrón creado usando nanolitografía por haz de electrones. [Crédito: Cortesía de Sungbae Lee en la Universidad de Rice]](/uploads/posts/2015/10/nanotech-prototypes-with-e-beam-nanolithography_1.jpg)
Los sistemas diseñados desde cero específicamente para nanolitografía pueden escribir características tan pequeñas como 10 nm de ancho. Esta capacidad hace que estos sistemas ideales para la producción de patrones a nanoescala en una producción de prototipos de laboratorio. Sin embargo, debido a que los sistemas de correo de haz tiene que escanear el patrón sobre una oblea, en lugar de pisar un patrón de una máscara preparada, que son demasiado lentos para alto volumen de fabricación de circuito integrado.
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